空間分辨率是 X射線成像圖像質(zhì)量的一項(xiàng)重要性能指標(biāo)，其測試工作也是X射線成像設(shè)備性能測試的重要內(nèi)容。線對卡法，是使用線對測試卡直接測試空間分辨率，由于操作方便、簡捷而被廣泛用于 實(shí)際工業(yè) CT 或者基于同步輻射X成像系統(tǒng)的空間分辨率的測試中。對于基于同步輻射的掃描X射線顯微或者相干衍射成像（CDI）、甚至疊層相干衍射成像（PTY）的成像分辨率可以低至數(shù)納米。

使用我們專為高精度測試任務(wù)設(shè)計的X射線納米成像測試卡（2D Resolution Test Target）探索無與倫比的精度。憑借針對Gold優(yōu)化的基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)，我們的目標(biāo)提供從4μm到50nm的分辨率，確保了出色的細(xì)節(jié)。我們還根據(jù)要求提供低至10nm的銥結(jié)構(gòu)，以滿足那些尋求極高精度的要求。通過先進(jìn)的設(shè)計與細(xì)致的納米制造技術(shù)的碰撞，使得我們的測試卡可以提高您的成像進(jìn)度。

我們有如下規(guī)格，以滿足您的具體實(shí)驗(yàn)要求：

?50納米Au：純金結(jié)構(gòu)，提供精確，高分辨率成像。

?30納米Au/Ir Hybrid：混合材料增強(qiáng)細(xì)節(jié)。

?20納米Au/Ir混合型：用于特殊成像需求的超精細(xì)結(jié)構(gòu)。

?10納米Au/Ir混合結(jié)構(gòu)：我們?yōu)槟切┩苿蛹{米級成像極限的最精確的結(jié)構(gòu)。

主要參數(shù)：

• 高襯度材料:500nm Au和100nm Ir

• 超寬的測試范圍：0.01-4μm

• 緊湊的設(shè)計：0.3x0.3μm

• 圖案設(shè)計和硅窗均可定制

• 保護(hù)層：厚聚合物（50nm測試卡可選）

• 質(zhì)量保證：每年交付數(shù)百片

圖案布局：

橫截面圖：

關(guān)于XRnanotech：

XRnanotech是瑞士領(lǐng)先的高質(zhì)量x射線光學(xué)元件制造商，從具有破紀(jì)錄分辨率的高縱橫比菲涅耳帶片到超穩(wěn)定的鉆石光學(xué)元件和用于廣泛x射線應(yīng)用的定制3d納米結(jié)構(gòu)。眾星聯(lián)恒聯(lián)合XRnanotech，為中國用戶提供所有售前咨詢，銷售及售后服務(wù)，歡迎聯(lián)系我們。

產(chǎn)品手冊：

X射線納米成像測試卡2D Resolution Test Target-產(chǎn)品手冊-眾星聯(lián)恒-2025-4-7.pdf