雙光子聚合
2025-03-27 16:30:48
unistar
- 相關產(chǎn)品：
依托尖端設備和豐富的經(jīng)驗，我們能夠為客戶提供從設計到成品的一站式解決方案，涵蓋電子束光刻、激光直寫、X射線光刻、雙光子聚合、極紫外激光干涉光刻、紫外光刻、電鍍等多種核心技術。產(chǎn)品線包括菲涅耳波帶片、納米級光柵、金剛石光學器件、納米分辨率測試卡、3D分辨率測試卡等。菲涅耳波帶片分辨率可低至<10nm，憑借獨特的 Ir-線倍增技術，可以獲得精確到 5nm 的 X 射線束聚焦。
雙光子聚合
雙光子灰度光刻是一種基于非線性光學效應的微納加工技術。其原理是利用高強度飛秒激光，使材料中的光敏分子同時吸收兩個低能量光子（總能量等于單光子吸收的能量），從而引發(fā)聚合反應。由于雙光子吸收僅發(fā)生在激光焦點處的高能密度區(qū)域，能夠通過逐層構建實現(xiàn)復雜形狀的高精度制造。因此可以實現(xiàn)三維精密結構的制造。
Nanoscribe GT 設備
全3D制造能力，最小特征尺寸小于200nm。
支持多種材料，包括可選鋁氧化物涂層以提高分辨率和對比度。
從設計到成品的一站式服務
Nanoscribe Quantum X 設備
最新技術，結合灰度光刻的卓越性能與雙光子聚合（2PP）的精度和靈活性。
無掩模光刻系統(tǒng)，適合各種2.5D結構的工業(yè)制造。
典型應用
表面圖案、平面微光學器件（包括自由曲面透鏡和微透鏡陣列）。
多級衍射光學元件。
示例微結構
高縱橫比微透鏡陣列：50μm
菲涅爾透鏡：100μm